公司成立於2005年，是一家專業設計﹑加工﹑製造、銷售、半導體產業設備的科技公司，
優於同業的規畫能力，在半導體行業已積累多年經驗，於二零零五年正式In house從事設備製造。公司擁有先進的技術，始終堅持以誠信為本、品質為上的優質服務為宗旨。
2008年我司代理光罩軟件，從事光罩母片製作與協助設計，並提供光阻劑及子片拷貝大大幫助客戶減少time to market的時間。

1.濕式工作台(wet workstation)

濕式蝕刻、沖洗、顯影工作站、煙櫃、parts clean、parts storage、藥劑供給系統

設備
全自動濕式設備(Fully Auto Wet Bench)
半自動濕式設備(Semi Auto Wet Bench)
手動濕式設備(Manual Wet Bench)
藥劑供應系統(Chemical Supply System)
製程良率改善

設施
二次配管專案處理

元件
PP. PVDF. PVC. PTFE化工特殊材料
塑材零件加工

各式濕式工作站 (Wet Bench)

型　　式	應用項目	應用領域
Auto	Etching	Wafer(Si, GaAs)
Semi-auto	Stripping	LCD
Manual	Develop	Diode
	Clean	Photo Mask
	Parts Cleaner	TFT-LCD
	Tube Cleaner, stocker.....等	Disk.....等

設施 (Facility)
機器手臂 (Machine Hook–up)
二次配管 (Secondary Piping (DI,Vacuum, Chemical, Gas))
排放系統 (DIW / Organic / Chemical Drain System)
處理冷卻水系統 (Process Cooling Water System)
廢棄藥劑集中系統 (Waste Chemical Collection System)

2.黃光室設備(Lab equipment)

a.設備(Equipment)
旋轉塗佈機(spin coater)
加熱板(Hot plank)
烤箱(Hot Box)
攪拌器(stirrer)
顯影機(development)
曝光機(exproser)
上膠機

b.原料(material)
光罩(母片設計)(mask)
子片製作 (sub mask)
光阻劑

mask製程能力:

使用產業	二極體	LED	wafer	PCB
尺寸	3"~4"	2"~4"	2"~12"	5"~30"
線寬
線距
製作時間

3.其他客製設備:(other equipment)